电子束蒸发镀膜
利用高速电子束加热使材料汽化蒸发,在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2,可达到3000℃以上,可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。
电子束加热的蒸镀源有直枪型电子枪和e型电子枪两种(也有环行),电子束自源发出,用磁场线圈使电子束聚焦和偏转,对膜料进行轰击和加热。
直流二级离子镀,是稳定的辉光放电;空心阴极离子镀与热丝弧离子镀,是热弧光放电,产生电子的原因均可简单概括为金属材料由于被加热到很高的温度,导致核外电子的热发射;阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种离子镀的放电类型均不相同,它采用的是冷弧光放电。金属表面处理PVD镀钛特点:增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。在众多离子镀膜技术中阴极电弧离子镀可谓是其中的集大成者,其目前已经逐步发展为硬质薄膜领域的主力。涂层种类选择
1)氮化钛涂层(TiN)
TiN是一种通用的涂层,可以提高刀具硬度并具有较高的氧化温度。
用途:高速钢切削工具,慢速加工工具(如低速车刀粒),耐磨零件,注塑
模具。
2)氮碳化钛涂层 (TiCN)
TiCN涂层是在TiN的基础上添加碳元素,以提高涂层的硬度和低的摩擦系数。
用途:高速具,冲压模具,成型模具
3)氮铝钛(TiAlN)、 氮钛铝AlTiN
俗称:中铝(Al:Ti=50:50)、高铝(Al:Ti=67:33)以上,
TiAlN/AlTiN涂层在加工过程中形成的氧化铝涂层可以有效提高加工工具的高温加工寿命,AlTiN涂层的抗高温氧化比TiAlN要高100度左右。
溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a),一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b),两者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
以上信息由专业从事镀钛加工服务电话的金常来于2024/4/28 11:13:46发布
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